言語	ラベル	説明	別名
日本語	光露光（マスクアライナ）
英語	mask aligner

言語	日本語
ラベル	光露光（マスクアライナ）
説明
別名

言語	英語
ラベル	mask aligner
説明
別名

関連語彙

上位語

Q465: リソグラフィー

同階層:

• Q3359: エピタキシャル膜形成
• Q3398: レジスト塗布
• Q3399: フォトマスク
• Q3400: 露光
• Q3402: 光露光（ステッパ）
• Q3403: 光露光（マスクレス、直接描画）
• Q3404: 電子線描画（EB）
• Q3405: レーザー加工
• Q3406: 現像
• Q3407: ナノインプリント
• Q3412: イオン注入
• Q3413: 酸化
• Q3414: 拡散