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FCシステム語彙
Q3994: FCシステム語彙
Q3994: FCシステム語彙
Q3995: セル構成
Q3995: セル構成
Q3996: MEA部材
Q3996: MEA部材
Q3998: 触媒層
Q3998: 触媒層
Q4189: 担持量
Q4190: I/C比
Q4191: Pt担持率
Q4193: 触媒層厚さ
Q3999: 電解質膜
Q3999: 電解質膜
Q4192: 電解質膜厚さ
Q4000: GDL/MPL
Q4180: CCM
Q4181: アノード
Q4182: カソード
Q4183: 触媒
Q4184: 担体
Q4185: アイオノマー
Q4186: サブガスケット
Q4187: シール材
Q4188: ラジカルクエンチャ
Q3997: セパレータ
Q4001: 実験・評価
Q4001: 実験・評価
Q4002: セル作製
Q4002: セル作製
Q4004: MEA作製
Q4004: MEA作製
Q4194: W/S比
Q4195: 水/アルコール比
Q4196: 重量固形分率
Q4197: 体積固形分率
Q4198: 塗工方法
Q4199: 塗布回数
Q4200: 開度
Q4201: 材圧
Q4202: ブレード間隔
Q4248: 粘度Up, 30rpm
Q4249: 粘度Up, 60rpm
Q4250: 粘度Down, 30rpm
Q4251: 粘度Down, 60rpm
Q4252: 粒度個数メディアン径
Q4253: 粒度個数平均径
Q4005: 評価セル
Q4005: 評価セル
Q4203: セル面積
Q4204: セパレータ材質
Q4205: 流路形状
Q4206: リブ幅
Q4207: チャネル幅
Q4208: 流路長
Q4209: セル締結圧
Q4003: セル評価
Q4003: セル評価
Q4006: セル評価手法
Q4006: セル評価手法
Q4232: コンディショニング
Q4233: IV
Q4234: CV
Q4235: LSV
Q4236: ORR
Q4237: EIS
Q4238: COSV
Q4239: 負荷応答耐久試験
Q4240: 起動停止耐久
Q4241: OCV耐久
Q4242: 加圧OCV耐久
Q4243: 乾湿サイクル耐久
Q4007: セル評価条件
Q4007: セル評価条件
Q4210: 背圧
Q4211: ガス流量
Q4212: 露点
Q4213: 加湿器温度
Q4214: セル温度
Q4215: ガス
Q4216: 相対湿度
Q4217: ガスパージ時間
Q4218: 水素分圧
Q4219: 酸素分圧
Q4220: 定電位
Q4221: 電圧レンジ
Q4222: 定電流
Q4223: 一定電圧(電流)保持時間
Q4224: 振幅
Q4225: レスポンス
Q4226: 電流リミット
Q4227: 走査速度
Q4228: 電流レンジ
Q4229: 測定点数
Q4230: ガス利用率
Q4231: 参照電極
Q4008: 評価装置
Q4008: 評価装置
Q4244: 評価装置
Q4245: ポテンショガルバノスタット
Q4246: 電子負荷装置
Q4247: 交流抵抗計
Q4009: 特性・物性
Q4009: 特性・物性
Q4010: セル特性
Q4011: 材料物性・特性