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Q0: その他 (上位・下位語のない項目)
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Q2: Resource
Q3: 物質・材料研究機構
Q4: 材料データプラットフォーム
Q5: DPF dictionary
Q6: administrative dictionary
Q7: materials dictionary
Q8: properties dictionary
Q9: characterization dictionary
Q10: 計算辞書
Q11: 構造辞書
Q12: instruments dictionary
Q13: computers dictionary
Q14: structural components dictionary
Q15: processes dictionary
Q16: miscellaneous dictionary
Q17: units dictionary
Q18: 圧力
Q19: パスカル
Q20: アメリカ国立標準技術研究所
Q36: 結晶構造
Q41: ライセンス
Q43: dummy dictionary
Q50: 化学状態
Q53: 定性分析
Q59: 形態学的分析
Q189: オープンフレームワーク
Q509: DPFCによる材料データ語彙の拡張
Q510: 定量分析
Q511: 表面分析
Q512: 元素分析
Q513: 真空中
Q514: ピーク中心
Q515: 秒
Q516: 単位
Q518: 量
Q519: time
Q520: unit of time
Q521: データ型
Q522: string
Q523: データ収集システム
Q524: 数値
Q525: ISO日時
Q526: 応力テンソル
Q527: 応力
Q529: rights statement
Q530: 著作権あり
Q531: クリエイティブ・コモンズ 表示 4.0 国際
Q532: クリエイティブ・コモンズ 表示-継承 4.0 国際
Q533: クリエイティブ・コモンズ 表示-改変禁止 4.0 国際
Q534: クリエイティブ・コモンズ 表示-非営利 4.0 国際
Q535: クリエイティブ・コモンズ 表示-非営利-改変禁止 4.0 国際
Q536: クリエイティブ・コモンズ 表示-非営利-継承 4.0 国際
Q537: クリエイティブ・コモンズ CC0 パブリック・ドメイン提供 1.0 全世界
Q538: パブリック・ドメイン・マーク 1.0
Q539: Apache License 2.0
Q540: GNU General Public License
Q541: MIT License
Q542: 空気中
Q543: 液体中
Q544: 不活性ガス中
Q545: 結晶構造
Q549: 環境
Q552: 真空中
Q553: 高圧下
Q554: 磁場中
Q555: 低温中
Q556: 多結晶
Q557: FCC particles on amorphous film
Q558: 計測装置
Q559: 顕微鏡
Q560: 分析電子顕微鏡
Q561: 合成・プロセス装置
Q562: 蒸着・成膜装置
Q563: スピン・コーター
Q643: バイオ特性
Q644: 分布
Q645: 電子的性質
Q646: 環境分析
Q647: 故障解析
Q648: 不純物分析
Q649: 磁気特性
Q650: 光学特性
Q651: 物理的特性
Q652: 理論的シミュレーション
Q658: 散乱理論
Q678: 分析分野
Q679: NIMS MDPF Common Messaging Format
Q684: unit of measure
Q688: 結晶学的分析
Q694: 塩化銅(II)
Q716: NIMS XAFS DBプロジェクト
Q1863: 理研計器データセット用辞書
Q1881: NGCシステム登録法令
Q2839: グロー放電質量分析法
Q3054: (test)スペクトル最適化
Q3056: 半値半幅
Q3057: 高さ
Q3058: 位置
Q3059: ローレンツガウス混合比
Q3060: 面積
Q3519: NIMS高温熱物性データベースプロジェクト
Q3623: Yb2O3
Q3624: Ni-10at%Ti
Q3625: Ni-60at%Ti
Q3626: Y2O3
Q3634: Starrydata語彙
Q3694: 硫酸カルシウム 2水和物
Q3695: スコッチテープ
Q3696: 硫酸塩グリーンラスト2水和物
Q3697: 一硫化砒素
Q3698: 三酸化二砒素
Q3699: 亜セレン酸ナトリウム
Q3700: スローソン石
Q3701: 酸化カドミウム（II）
Q3702: チタン酸ユウロピウム
Q3703: セレン化ユウロピウム
Q3955: 水酸化ニッケル（II）
Q3970: 四硫化三バナジウム
Q3971: 酸化バナジウム
Q3972: 二硫化バナジウム（III）
Q3973: クロム酸ナトリウム
Q3974: 酸化コバルト(III)
Q3975: オキシ水酸化コバルト
Q3976: α-水酸化ニッケル
Q3977: β-水酸化ニッケル
Q3978: 水酸化ニッケル（II）
Q3979: オキシ水酸化ニッケル
Q3980: 三硫化ニッケルリン
Q3981: 過酸化銅
Q3982: ガリウム
Q3983: ストロンチウム
Q3984: 酸化ルテニウム
Q3985: 塩化金（I）
Q3986: 水銀
Q3987: 臭化銀（II）
Q3988: ランタン
Q3989: セリウム
Q3990: プラセオジム
Q3991: トリウム
Q3992: ウラン
Q4029: CPDDB材料タイプ辞書
Q4042: スルファニル安息香酸
Q4043: ヒ酸
Q4044: アルシン酸
Q4045: アルソン酸
Q4046: 亜ヒ酸
Q4047: ヨウ素酸塩
Q4092: 硫化クロム（II）
Q4094: 硫酸クロム（III）
Q4096: 二硫化マンガン
Q4098: カルコパイライト
Q4107: リン酸鉄（III）二水和物
Q4109: 鉄（III）ピロホスフェート
Q4110: 硫酸鉄（III）
Q4138: メチルアルソン酸
Q4153: 二硫化セレン
Q4179: 技術研究組合FC-Cubic
Q4254: 担持量
Q4255: I/C比
Q4256: Pt担持率
Q4257: 電解質膜厚さ
Q4258: 触媒層厚さ
Q4259: W/S比
Q4260: 水/アルコール比
Q4261: 重量固形分率
Q4262: 体積固形分率
Q4263: 塗工方法
Q4264: 塗布回数
Q4265: 開度
Q4266: 材圧
Q4267: ブレード間隔
Q4268: セル面積
Q4269: セパレータ材質
Q4270: 流路形状
Q4271: リブ幅
Q4272: チャネル幅
Q4273: 流路長
Q4274: セル締結圧
Q4275: 背圧
Q4276: ガス流量
Q4277: 露点
Q4278: 加湿器温度
Q4279: セル温度
Q4280: ガス
Q4281: 相対湿度
Q4282: ガスパージ時間
Q4283: 水素分圧
Q4284: 酸素分圧
Q4285: 定電位
Q4286: 電圧レンジ
Q4287: 定電流
Q4288: 一定電圧（電流）保持時間
Q4289: 振幅
Q4290: レスポンス
Q4291: 電流リミット
Q4292: 走査速度
Q4293: 電流レンジ
Q4294: 測定点数
Q4295: ガス利用率
Q4296: 参照電極
Q4297: コンディショニング
Q4298: IV
Q4299: CV
Q4300: LSV
Q4301: ORR
Q4302: EIS
Q4303: COSV
Q4304: 負荷応答耐久試験
Q4305: 起動停止耐久
Q4306: OCV耐久
Q4307: 加圧OCV耐久
Q4308: 乾湿サイクル耐久
Q4309: 評価装置
Q4310: ポテンショガルバノスタット
Q4311: 電子負荷装置
Q4312: 交流抵抗計
Q4313: 粘度Up, 30rpm
Q4314: 粘度Up, 60rpm
Q4315: 粘度Down, 30rpm
Q4316: 粘度Down, 60rpm
Q4317: 粒度個数メディアン径
Q4318: 粒度個数平均径
Q4319: 担持量
Q4320: I/C比
Q4321: Pt担持率
Q4322: 電解質膜厚さ
Q4323: 触媒層厚さ
Q4324: W/S比
Q4325: 水/アルコール比
Q4326: 重量固形分率
Q4327: 体積固形分率
Q4328: 塗工方法
Q4329: 塗布回数
Q4330: 開度
Q4331: 材圧
Q4332: ブレード間隔
Q4333: セル面積
Q4334: セパレータ材質
Q4335: 流路形状
Q4336: リブ幅
Q4337: チャネル幅
Q4338: 流路長
Q4339: セル締結圧
Q4340: 背圧
Q4341: ガス流量
Q4342: 露点
Q4343: 加湿器温度
Q4344: セル温度
Q4345: ガス
Q4346: 相対湿度
Q4347: ガスパージ時間
Q4348: 水素分圧
Q4381: NIMS CPDDB材料辞書
Q4382: NIMS CPDDBプロジェクト