言語	ラベル	説明	別名
日本語	シグラセット (R)
英語	SIGRACET (R)

言語	日本語
ラベル	シグラセット (R)
説明
別名

言語	英語
ラベル	SIGRACET (R)
説明
別名

関連語彙

上位語

Q0: その他 (上位・下位語のない項目)

同階層:

• Q2: Resource
• Q3: 物質・材料研究機構
• Q4: 材料データプラットフォーム
• Q5: DPF dictionary
• Q6: administrative dictionary
• Q7: materials dictionary
• Q8: properties dictionary
• Q9: characterization dictionary
• Q10: 計算辞書
• Q11: 構造辞書
• Q12: instruments dictionary
• Q13: computers dictionary
• Q14: structural components dictionary
• Q15: processes dictionary
• Q16: miscellaneous dictionary
• Q17: units dictionary
• Q18: 圧力
• Q19: パスカル
• Q20: アメリカ国立標準技術研究所
• Q36: 結晶構造
• Q41: ライセンス
• Q43: dummy dictionary
• Q50: 化学状態
• Q53: 定性分析
• Q59: 形態学的分析
• Q189: オープンフレームワーク
• Q509: DPFCによる材料データ語彙の拡張
• Q510: 定量分析
• Q511: 表面分析
• Q512: 元素分析
• Q513: 真空中
• Q514: ピーク中心
• Q515: 秒
• Q516: 単位
• Q518: 量
• Q519: time
• Q520: unit of time
• Q521: データ型
• Q522: string
• Q523: データ収集システム
• Q524: 数値
• Q525: ISO日時
• Q526: 応力テンソル
• Q527: 応力
• Q529: rights statement
• Q530: 著作権あり
• Q531: クリエイティブ・コモンズ 表示 4.0 国際
• Q532: クリエイティブ・コモンズ 表示-継承 4.0 国際
• Q533: クリエイティブ・コモンズ 表示-改変禁止 4.0 国際
• Q534: クリエイティブ・コモンズ 表示-非営利 4.0 国際
• Q535: クリエイティブ・コモンズ 表示-非営利-改変禁止 4.0 国際
• Q536: クリエイティブ・コモンズ 表示-非営利-継承 4.0 国際
• Q537: クリエイティブ・コモンズ CC0 パブリック・ドメイン提供 1.0 全世界
• Q538: パブリック・ドメイン・マーク 1.0
• Q539: Apache License 2.0
• Q540: GNU General Public License
• Q541: MIT License
• Q542: 空気中
• Q543: 液体中
• Q544: 不活性ガス中
• Q545: 結晶構造
• Q549: 環境
• Q552: 真空中
• Q553: 高圧下
• Q554: 磁場中
• Q555: 低温中
• Q556: 多結晶
• Q557: FCC particles on amorphous film
• Q558: 計測装置
• Q559: 顕微鏡
• Q560: 分析電子顕微鏡
• Q561: 合成・プロセス装置
• Q562: 蒸着・成膜装置
• Q563: スピン・コーター
• Q643: バイオ特性
• Q644: 分布
• Q645: 電子的性質
• Q646: 環境分析
• Q647: 故障解析
• Q648: 不純物分析
• Q649: 磁気特性
• Q650: 光学特性
• Q651: 物理的特性
• Q652: 理論的シミュレーション
• Q658: 散乱理論
• Q678: 分析分野
• Q679: NIMS MDPF Common Messaging Format
• Q684: unit of measure
• Q688: 結晶学的分析
• Q694: 塩化銅(II)
• Q716: NIMS XAFS DBプロジェクト
• Q1863: 理研計器データセット用辞書
• Q1881: NGCシステム登録法令
• Q2839: グロー放電質量分析法
• Q3054: (test)スペクトル最適化
• Q3056: 半値半幅
• Q3057: 高さ
• Q3058: 位置
• Q3059: ローレンツガウス混合比
• Q3060: 面積
• Q3519: NIMS高温熱物性データベースプロジェクト
• Q3623: Yb2O3
• Q3624: Ni-10at%Ti
• Q3625: Ni-60at%Ti
• Q3626: Y2O3
• Q3634: Starrydata語彙
• Q3694: 硫酸カルシウム 2水和物
• Q3695: スコッチテープ
• Q3696: 硫酸塩グリーンラスト2水和物
• Q3697: 一硫化砒素
• Q3698: 三酸化二砒素
• Q3699: 亜セレン酸ナトリウム
• Q3700: スローソン石
• Q3701: 酸化カドミウム（II）
• Q3702: チタン酸ユウロピウム
• Q3703: セレン化ユウロピウム
• Q3955: 水酸化ニッケル（II）
• Q3970: 四硫化三バナジウム
• Q3971: 酸化バナジウム
• Q3972: 二硫化バナジウム（III）
• Q3973: クロム酸ナトリウム
• Q3974: 酸化コバルト(III)
• Q3975: オキシ水酸化コバルト
• Q3976: α-水酸化ニッケル
• Q3977: β-水酸化ニッケル
• Q3978: 水酸化ニッケル（II）
• Q3979: オキシ水酸化ニッケル
• Q3980: 三硫化ニッケルリン
• Q3981: 過酸化銅
• Q3982: ガリウム
• Q3983: ストロンチウム
• Q3984: 酸化ルテニウム
• Q3985: 塩化金（I）
• Q3986: 水銀
• Q3987: 臭化銀（II）
• Q3988: ランタン
• Q3989: セリウム
• Q3990: プラセオジム
• Q3991: トリウム
• Q3992: ウラン
• Q4029: CPDDB材料タイプ辞書
• Q4042: スルファニル安息香酸
• Q4043: ヒ酸
• Q4044: アルシン酸
• Q4045: アルソン酸
• Q4046: 亜ヒ酸
• Q4047: ヨウ素酸塩
• Q4092: 硫化クロム（II）
• Q4094: 硫酸クロム（III）
• Q4096: 二硫化マンガン
• Q4098: カルコパイライト
• Q4107: リン酸鉄（III）二水和物
• Q4109: 鉄（III）ピロホスフェート
• Q4110: 硫酸鉄（III）
• Q4138: メチルアルソン酸
• Q4153: 二硫化セレン
• Q4179: 技術研究組合FC-Cubic
• Q4254: 担持量
• Q4255: I/C比
• Q4256: Pt担持率
• Q4257: 電解質膜厚さ
• Q4258: 触媒層厚さ
• Q4259: W/S比
• Q4260: 水/アルコール比
• Q4261: 重量固形分率
• Q4262: 体積固形分率
• Q4263: 塗工方法
• Q4264: 塗布回数
• Q4265: 開度
• Q4266: 材圧
• Q4267: ブレード間隔
• Q4268: セル面積
• Q4269: セパレータ材質
• Q4270: 流路形状
• Q4271: リブ幅
• Q4272: チャネル幅
• Q4273: 流路長
• Q4274: セル締結圧
• Q4275: 背圧
• Q4276: ガス流量
• Q4277: 露点
• Q4278: 加湿器温度
• Q4279: セル温度
• Q4280: ガス
• Q4281: 相対湿度
• Q4282: ガスパージ時間
• Q4283: 水素分圧
• Q4284: 酸素分圧
• Q4285: 定電位
• Q4286: 電圧レンジ
• Q4287: 定電流
• Q4288: 一定電圧（電流）保持時間
• Q4289: 振幅
• Q4290: レスポンス
• Q4291: 電流リミット
• Q4292: 走査速度
• Q4293: 電流レンジ
• Q4294: 測定点数
• Q4295: ガス利用率
• Q4296: 参照電極
• Q4297: コンディショニング
• Q4298: IV
• Q4299: CV
• Q4300: LSV
• Q4301: ORR
• Q4302: EIS
• Q4303: COSV
• Q4304: 負荷応答耐久試験
• Q4305: 起動停止耐久
• Q4306: OCV耐久
• Q4307: 加圧OCV耐久
• Q4308: 乾湿サイクル耐久
• Q4309: 評価装置
• Q4310: ポテンショガルバノスタット
• Q4311: 電子負荷装置
• Q4312: 交流抵抗計
• Q4313: 粘度Up, 30rpm
• Q4314: 粘度Up, 60rpm
• Q4315: 粘度Down, 30rpm
• Q4316: 粘度Down, 60rpm
• Q4317: 粒度個数メディアン径
• Q4318: 粒度個数平均径
• Q4319: 担持量
• Q4320: I/C比
• Q4321: Pt担持率
• Q4322: 電解質膜厚さ
• Q4323: 触媒層厚さ
• Q4324: W/S比
• Q4325: 水/アルコール比
• Q4326: 重量固形分率
• Q4327: 体積固形分率
• Q4328: 塗工方法
• Q4329: 塗布回数
• Q4330: 開度
• Q4331: 材圧
• Q4332: ブレード間隔
• Q4333: セル面積
• Q4334: セパレータ材質
• Q4335: 流路形状
• Q4336: リブ幅
• Q4337: チャネル幅
• Q4338: 流路長
• Q4339: セル締結圧
• Q4340: 背圧
• Q4341: ガス流量
• Q4342: 露点
• Q4343: 加湿器温度
• Q4344: セル温度
• Q4345: ガス
• Q4346: 相対湿度
• Q4347: ガスパージ時間
• Q4348: 水素分圧
• Q4382: NIMS CPDDBプロジェクト
• Q5075: ナフィオン (TM)
• Q5079: ゴアセレクト (R) メンブレン
• Q5326: 鉄明礬石