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関連語彙

下位語

• Q3995: セル構成

  • Q3996: MEA部材

    • Q3998: 触媒層

      • Q4189: 担持量
      • Q4190: I/C比
      • Q4191: Pt担持率
      • Q4193: 触媒層厚さ
    • Q3999: 電解質膜

      • Q4192: 電解質膜厚さ
    • Q4000: GDL/MPL
    • Q4180: CCM
    • Q4181: アノード
    • Q4182: カソード
    • Q4183: 触媒
    • Q4184: 担体
    • Q4185: アイオノマー
    • Q4186: サブガスケット
    • Q4187: シール材
    • Q4188: ラジカルクエンチャ
  • Q3997: セパレータ
• Q4001: 実験・評価

  • Q4002: セル作製

    • Q4004: MEA作製

      • Q4194: W/S比
      • Q4195: 水/アルコール比
      • Q4196: 重量固形分率
      • Q4197: 体積固形分率
      • Q4198: 塗工方法
      • Q4199: 塗布回数
      • Q4200: 開度
      • Q4201: 材圧
      • Q4202: ブレード間隔
      • Q4248: 粘度Up, 30rpm
      • Q4249: 粘度Up, 60rpm
      • Q4250: 粘度Down, 30rpm
      • Q4251: 粘度Down, 60rpm
      • Q4252: 粒度個数メディアン径
      • Q4253: 粒度個数平均径
    • Q4005: 評価セル

      • Q4203: セル面積
      • Q4204: セパレータ材質
      • Q4205: 流路形状
      • Q4206: リブ幅
      • Q4207: チャネル幅
      • Q4208: 流路長
      • Q4209: セル締結圧
  • Q4003: セル評価

    • Q4006: セル評価手法

      • Q4232: コンディショニング
      • Q4233: IV
      • Q4234: CV
      • Q4235: LSV
      • Q4236: ORR
      • Q4237: EIS
      • Q4238: COSV
      • Q4239: 負荷応答耐久試験
      • Q4240: 起動停止耐久
      • Q4241: OCV耐久
      • Q4242: 加圧OCV耐久
      • Q4243: 乾湿サイクル耐久
    • Q4007: セル評価条件

      • Q4210: 背圧
      • Q4211: ガス流量
      • Q4212: 露点
      • Q4213: 加湿器温度
      • Q4214: セル温度
      • Q4215: ガス
      • Q4216: 相対湿度
      • Q4217: ガスパージ時間
      • Q4218: 水素分圧
      • Q4219: 酸素分圧
      • Q4220: 定電位
      • Q4221: 電圧レンジ
      • Q4222: 定電流
      • Q4223: 一定電圧（電流）保持時間
      • Q4224: 振幅
      • Q4225: レスポンス
      • Q4226: 電流リミット
      • Q4227: 走査速度
      • Q4228: 電流レンジ
      • Q4229: 測定点数
      • Q4230: ガス利用率
      • Q4231: 参照電極
    • Q4008: 評価装置

      • Q4244: 評価装置
      • Q4245: ポテンショガルバノスタット
      • Q4246: 電子負荷装置
      • Q4247: 交流抵抗計
• Q4009: 特性・物性

  • Q4010: セル特性
  • Q4011: 材料物性・特性